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09.03.2020
台湾知的財産局は、意匠の審査基準について、図面の記載要件の緩和、分割要件の緩和、保護対象の拡充などの改訂が行われる予定を2020年8月31日に発表

詳しくはこちら→</jp/publications.php?act=view&no=154>をご覧下さい。

※ご不明点がございましたら、ipdept@taie.com.twまでお問い合わせ下さい

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