作者 劉又安

●韓國專利優先審查制度之修訂

申請人目前在韓國無須符合特定條件即可提出優先審查以享有該制度的利益。然而，這卻影響制度的效率，特別是因申請案的相關可專利性文件不足而造成低核准率。相對地，其他如美國及日本的國家皆要求優先審查的請求須附上該發明相關先前技術的檢索報告。因此，韓國的優先審查將作出以下的修訂：

1.發明相關先前技術的檢索報告
自2009年9月1日起，申請人如欲請求優先審查，須先進行該發明的相關先前技術檢索，並於優先審查的請求書中（No.5表格）載明檢索的結果以及該發明與先前技術的比較。
2.已實施或準備實施之發明
只有在進行該發明商業行為的申請人才能針對已實施或準備實施的發明案提出優先審查請求，因此提出請求時，須於請求書中載明該發明是否已由申請人實施或準備實施，以及申請人是否為該發明已進行商業行為者。此外，任何能證明申請人已實施或準備實施該發明的文件皆須提出。
3.發明與公司作為申請人之關係的規定
根據2008年9月的修正，註冊為投資公司、創新科技公司、或專門製造零件或材料的公司必須證明該技術領域與該發明標的之間的關係。然而，在確認此關係的過程中，往往會延誤優先審查過程的決議。為了改善此情況，此次修訂規定，該註冊公司須於提出優先審查請求的同時一併附上文件證明該發明案是屬於該企業領域的發明。
4.「綠色技術」申請案
自2009年10月1日起能參與加速審查的「綠色技術」申請案清楚規定為下列發明之一：防止聲音及震動的設備、隔音設備、防震設備或實施該設備之方法。防止水污染的設備或實施該設備之方法。防止空氣污染的設備或實施該設備之方法。廢棄物處理之設備或實施該設備之方法。製造用以淨化或用以公眾資源的設備或實施該設備之方法。回收的設備或實施該設備之方法。公眾污水處理、排泄物處理、灰水或私人污水處理之設備或實施該設備之方法。

●韓國與美國啟動SHARE計劃

KIPO與USPTO已將於9月1日起實施「為加速審查之申請案策略處理(Strategic Handing of Applications for Rapid Examination, SHARE)」計劃，即一發明同時向KIPO及USPTO申請專利時，第二申請局將能利用最先申請局的審查資料進行相對應申請案的審查。
在此計畫下，兩國之審查委員會利用網路提供對方各種重要資料，如先前技術、檢索策略、審查結果及審查技術。此資料將有助於增進兩國的合作，同時提升審查品質並減少積案，申請人也能在兩國取得更可靠的專利。
某種程度上，SHARE計劃與「專利審查高速公路(PPH)」計劃類似，兩者皆是透過國與國互相合作進行專利的審查。然而，不同於PPH計劃，SHARE計劃不需要申請人提出請求即可進行，且最先申請局的申請案有無取得專利不影響參與資格。
韓國與美國之間的SHARE計劃將先針對燃料電池及半導體製造技術領域的申請案試行一年，之後再漸漸擴展至其他技術領域的申請案。

●韓國專利2009年第二季申請概況

根據KIPO的統計，由於近期全球經濟衰退，2009年第二季專利申請及核准件數較去年呈現下降趨勢。
第二季的專利申請及核准件數一年比一年少，今年專利申請的總件數為89,445件(-5.2%)；核准註冊專利的總件數則是只有37,361件(-27.5%)。然而，相較於第一季的統計，第二季因經濟的復甦、匯率的穩定及政府經濟刺激政策，故衰退率較緩慢。
就各專利總類而言，發明專利申請案減少了6.3%，新型及新式樣申請則是個別成長了5.2%及5.9%。由大公司申請的專利申請案減少了21.2%，但中型公司則是呈現了90.4%的成長。
在各國方面，日本向韓國申請專利的總件數為4,226件，比起去年下降了28.3%。美國及德國向韓國申請專利的件數也分別為-22.8%及-23.2%，其中在美國公司中， IBM及Intel分別為下降了78.3%及18.3%。
KIPO為提升審查品質，造成審查期間延長，故今年大公司核准註冊的專利件數只有7,210件，較去年下降了41.7%。日本及美國的核准註冊專利件數亦下降了34.4%及17.3%。

●五大專利局同意協調專利審查並採用共同專利申請案格式

USPTO、JPO、EPO、KIPO及SIPO五大專利局的局長於2009年9月11日至12日在德國舉行的會議中，同意協調專利審查並建立十大基礎方案(10 foundation projects)。
十大基礎方案涵蓋所有有關專利審查的制度，例如：制定分享審查結果的制度、共同申請案格式、共同建立專利檢索資料庫、審查委員訓練及協調專利審查指南。
五局間的合作將能增進各局專利審查的效率並能全面標準化專利審查的環境，使得審查結果能更一致。
此外，五大專利局決定採用共同專利申請案格式，並修改專利制度以減少對申請人所造成的不便。

資料來源：Wonjon, P.C. Intellectual Property Law Firm, C&S LOGOS Patent and Law Office